以下為您分別簡要解讀這四項最新推薦性國家標(biāo)準(zhǔn)——

微束分析 電子探針顯微分析（EPMA） 術(shù)語》 (標(biāo)準(zhǔn)號:GB/T 21636-2021) 

本標(biāo)準(zhǔn)為修訂采標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)，采標(biāo)自ISO 23833:2013。

       電子探針顯微分析（EPMA）是一門綜合性的技術(shù)，涉及物理、化學(xué)、電子學(xué)等廣泛術(shù)語。本標(biāo)準(zhǔn)只限于定義電子探針顯微分析（EPMA）、能譜儀（EDS）顯微分析標(biāo)準(zhǔn)化實踐中使用和直接有關(guān)的術(shù)語，包括電子探針顯微分析用一般術(shù)語定義；描述電子探針顯微分析儀器的術(shù)語定義；用于電子探針顯微分析方法的術(shù)語定義。本標(biāo)準(zhǔn)的大部術(shù)語也適合于能譜儀顯微分析。

       第一版EPMA術(shù)語2008年發(fā)布以來，對EPMA、EDS顯微分析相關(guān)術(shù)語的規(guī)范起到重要作用。為了增加新技術(shù)發(fā)展提出的新術(shù)語和對第一版相關(guān)術(shù)語進(jìn)行補充和修改，ISO于2013年發(fā)布了EPMA術(shù)語修訂版（第二版）。本標(biāo)準(zhǔn)修訂是根據(jù)第二版進(jìn)行等同采標(biāo)。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位：中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所 。

主要起草人：曾毅 、李香庭 。

《微束分析 用于波譜和能譜分析的粉末試樣制備方法》（標(biāo)準(zhǔn)號:GB/T 41074-2021）

 本標(biāo)準(zhǔn)為制定采標(biāo)標(biāo)準(zhǔn)，采標(biāo)自ISO 20720:2018。

       本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用安裝在EPMA或SEM上的能量色散譜儀(EDS)或波長色散光譜儀(WDS)分析粉末中的顆粒時的樣品制備方法。根據(jù)分析目的和粒度，對粉末顆粒分析的制備方法進(jìn)行了分類。本標(biāo)準(zhǔn)適用于直徑大于100nm且直徑小于100μm的無機物顆粒。它只適用于“普通”粉末的分析，這意味著它不包括特殊應(yīng)用的程序，如法醫(yī)或痕量分析。

       本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位：中國地質(zhì)科學(xué)院礦產(chǎn)資源研究所 、核工業(yè)北京地質(zhì)研究院 、中國科學(xué)院地質(zhì)與地球物理研究所 。

主要起草人：陳振宇 、范光 、毛騫 。

《微束分析 薄晶體厚度的會聚束電子衍射測定方法》 (標(biāo)準(zhǔn)號:GB/T 20724-2021) 

本標(biāo)準(zhǔn)為GB/T 20724-2006的修訂標(biāo)準(zhǔn)。

        本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了用透射/掃描透射電子顯微鏡測定薄晶體試樣厚度的會聚束電子衍射（CBED）方法。適用于對線度從幾納米至幾百微米、厚度在幾十至幾百納米范圍的薄晶體厚度測定。主要內(nèi)容為：CBED技術(shù)測量薄晶體厚度的方法概述、適用的材料試樣、實驗方法與基本步驟、數(shù)據(jù)的分析計算以及不確定度等，可供廣大分析人員參照執(zhí)行。

目前我國在科研院所、高等院校、大型企業(yè)和各地分析測試中心等實驗室已裝備了大量透射電鏡/掃描透射電鏡（TEM/STEM），開展相關(guān)應(yīng)用。對應(yīng)的國標(biāo)GB/T20724- 2006已經(jīng)發(fā)布多年，在此期間，材料研究水平以及儀器設(shè)備均有極大進(jìn)步。因此，對GB/T20724- 2006進(jìn)行修訂具有現(xiàn)實的重要意義。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位：北京科技大學(xué) 、中國航發(fā)北京航空材料研究院 。

主要起草人：柳得櫓 、婁艷芝 

《微束分析 電子背散射衍射 鋼中奧氏體的定量分析》 (標(biāo)準(zhǔn)號:GB/T 41076-2021)  

本標(biāo)準(zhǔn)為制定標(biāo)準(zhǔn)。

      本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了采用電子背散射衍射（EBSD）測量鋼中奧氏體含量和形態(tài)的方法。本標(biāo)準(zhǔn)主要技術(shù)內(nèi)容包括術(shù)語和定義、原理、設(shè)備、取樣、試樣制備、校準(zhǔn)與核查、測量、數(shù)據(jù)分析及檢測報告等。

      奧氏體存在于很多鋼中，如低碳鋼、中碳鋼、低合金鋼等。近幾年奧氏體尤其在TRIP鋼、QP鋼、TWIP鋼等低合金高強汽車板里應(yīng)用很多。奧氏體在變形過程中會部分發(fā)生馬氏體相變，其含量及轉(zhuǎn)變量會直接影響到材料強度和延伸率的提高程度。轉(zhuǎn)變量主要由奧氏體形態(tài)決定。因此，奧氏體的含量和形態(tài)直接影響了這些高強汽車板的服役性能。

        國內(nèi)目前主要使用YB/T5128-2006《鋼中殘余奧氏體定量測定 X射線衍射儀法》測量奧氏體含量。該標(biāo)準(zhǔn)在使用過程中存在如下問題：1)適用于無取向的鋼;2)對形態(tài)無法表征。

       背散射電子衍射法（EBSD）在測量奧氏體含量時不受取向的影響，并且可以對奧氏體的形態(tài)進(jìn)行表征，其測量結(jié)果對高強汽車板的研發(fā)有著很重要的指導(dǎo)意義，同時也可以作為該類產(chǎn)品的一項重要指標(biāo)來監(jiān)督產(chǎn)品質(zhì)量。

本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位：首鋼集團(tuán)有限公司 、牛津儀器科技(上海)有限公司 、鋼鐵研究總院 。

主要起草人：孟楊 、鞠新華 、崔桂彬 、楊小鵬 、李繼康 、張玉成 、陳鷹 、尹立新 、任群 、嚴(yán)春蓮 、其其格 、賈惠平 。